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Seite: Tiefenprofilanalysen (GDOES)

Hier finden Sie weiterführende Informationen zu den jeweiligen Themengebieten:

Wir bieten Ihnen Tiefenprofilanalysen Ihrer Oberflächen und Schichten als Dienstleistung an.

Für jede Art von Oberflächen und Schichten werden bei uns optimale Anregungs- und Kalibrierbedingungen verwendet.

Wir können dadurch u. a. analysieren

 

  • Tiefenprofile von Schichten bis 500 µm Tiefe
  • Exakte Bestimmung von Porensaum und Verbindungsschicht nitrierter und nitrocarburierter Teile
  • Stöchiometrisch korrekte Tiefenprofilanalyse von Oxidschichten
  • Passivschichten auf Edelstählen
  • Runde oder fast beliebig gekrümmte Oberflächen mit einer lateralen Auflösung bis 0,8 mm durch gepulste Hochfrequenzanalysen
  • Nachweis von organischen Rückständen auf Oberflächen durch spezielle CH3- und C2H5 Detektoren
  • Nachweis von Monolagen auf metallischen Oberflächen

 

All diese Untersuchungen sind natürlich Bestandteil des akkreditierten Bereiches nach DIN EN ISO 17025.

 

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Funktionsprinzip

Anwendungsbeispiele

  Vor- und Nachtteile

  Reinigungsrückstände

 

  • Wärmebehandlung (Nitrieren, Nitrocarburieren, Borieren)
  • PVD-/CVD-Beschichtungen
  • Galvanik
  • Oxidschichten
  • Passivierschichten (Chromatierung, Phosphatierung)
  • Chemische Beschichtungen
  • Verzinkte Bleche
  • Folien
  • Bestimmung der chemischen Zusammensetzung des Grundmateriales (Bulk)

Hauptvorteile quantitativer GDOS-Tiefenprofilanalysen

 

  • Bestimmung aller Elemente (incl. H)
  • Niedrige Nachweisgrenzen (0,1 - 10 ppm; Ausnahme: Cl und F)
  • Hohe Sputterrate --> Tiefenprofilanalysen bis zu 100 µm
  • Kostengünstige Anschaffung, geringe Analysenkosten
  • Bedienung durch angelerntes Personal ???
  • Chemische Analyse des Grundmateriales (Bulkanalyse)
  • Gute Reproduzierbarkeit (RSD: 0.1 - 1,0 %)
  • Jetzt neu: Auch gekrümmte Proben sind meßbar!!!
  • Gepulste HF-Analysen nichtleitender Schichten sind jetzt möglich

 

Nachteil quantitativer GDOS-Tiefenprofilanalysen

 

  • Tiefenauflösung: Ca. 10 % der Tiefe
  • Laterale Auflösung >1 mm
  • Verfügbarkeit von Eichstandards
  • Kraterrandbereiche sind nicht ausblendbar
  • Wasserstoffeffekte an der Oberfläche
  • Sehr saubere und glatte Oberfläche nötig für die korrekte Analyse der obersten nm

Schadensfall: Reinigungsrückstände

Schlecht

Gut

Skalierung:

  • Fe: 100 %
  • Si: 2 %
  • Na: 2 %
  • C: 25 %
  • P: 0,5 %
  • Ca: 10 %
  • N: 20 %
  • S: 1 %
  • O: 50 %
  • Mn: 10 %

 

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